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窒化アルミニウム(AlN)基板

正天新材料は、費用対効果の高いプロセスで製造された最先端の窒化アルミニウム(AlN)を提供することを専門としています。当社は、迅速なプロトタイプ開発を促進し、大量生産のニーズに対応する効率的な大規模製造施設を運営・維持しています。AlNは卓越した特性を誇っており、様々な領域で有望な多用途材料として位置付けられています。
まず第一に、窒化アルミニウム基板は優れた熱伝導性を示し、電子部品の放熱に理想的な選択肢となります。その高い熱伝導性により、電子デバイスの動作時の安定性が確保され、部品への熱応力の影響が効果的に緩和されます。このため、窒化アルミニウム基板は、ハイパワー電子デバイスや無線周波数(RF)コンポーネントに広く採用され、これらの分野の技術進歩を後押ししています。
さらに、これらの基板は優れた電気絶縁特性を示し、過酷な環境下でも安定した動作が可能です。この材料の絶縁性能は、高密度集積回路(HDIC)やパワーモジュールに理想的な基板であると同時に、マイクロ波およびミリ波通信システムで卓越した性能を発揮します。
窒化アルミニウム基板は、その電気的特性に加えて、強固な機械的強度と化学的安定性を示し、無数の複雑なエンジニアリング用途に適しています。その高温安定性と耐食性は、航空宇宙、自動車エレクトロニクス、エネルギー関連産業において不可欠なものとなっています。
要約すると、窒化アルミニウム基板は、その卓越した熱伝導性、電気絶縁特性、機械的強度により、現代の先端技術において極めて重要な材料として登場しました。その広範な応用範囲と卓越した性能は、エレクトロニクス、通信

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