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窒化ケイ素(Si3N4)基板

正天新材料は、コスト効率の高いプロセスで製造された最先端の窒化ケイ素(Si3N4)を専門に提供しています。窒化ケイ素基板は、窒化ケイ素(Si3N4)から作られる高性能材料として高い支持を得ています。このセラミック基板は、その優れた物理的・化学的特性により、様々な分野で幅広く使用されています。
まず、窒化ケイ素基板は卓越した機械的強度と硬度を持ち、高温・高圧の環境下でも安定性を維持することができます。このため、窒化ケイ素基板は、自動車エンジン部品や化学装置など、高い耐摩耗性と耐腐食性が要求される用途に最適な構造材料です。
次に、窒化シリコン基板は優れた熱伝導性を示すため、熱管理アプリケーションに最適です。電子デバイスやハイパワー電子モジュールでは、これらの基板が効果的に熱を放散し、動作中の適切な温度制御を保証します。
さらに、窒化ケイ素基板は優れた電気絶縁特性を示すため、エレクトロニクス分野で広く使用されています。この材料の電気絶縁性能により、集積回路、電子部品、高周波用途に理想的な基板となります。
要約すると、窒化ケイ素基板は、機械的強度、熱伝導性、電気絶縁性などの多面的な優れた特性を備えており、エンジニアリング製造から電子技術に至るまで、さまざまな分野で広範な応用が期待されています。

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